Компьютерное моделирование нанотехнологий, наноматериалов и наноструктур. Математическое моделирование фотолитографических процессов и процессов электронной литографии при создании субмикронных структ

Компьютерное моделирование нанотехнологий, наноматериалов и наноструктур. Математическое моделирование фотолитографических процессов и процессов электронной литографии при создании субмикронных структ

0
Читать онлайн
0 отзывов

Скачать книгу

Фрагмент

О книге "Компьютерное моделирование нанотехнологий, наноматериалов и наноструктур. Математическое моделирование фотолитографических процессов и процессов электронной литографии при создании субмикронных структ"

Курс лекций описывает основные математические модели фотолитографии и электронной литографии, используемых при создании субмикронных структур. Приведены модели отдельных процессов фотолитографии: формирование изображения в фоторезисте, экспонирование, травление фоторезиста. Показаны ограничения, которые накладываются на процесс фотолитографии. Приведена теория электронной эмиссии, используемая для моделирования формирования электронного пучка. Описан эффект близости, который вносит ограничения в точность формирования изображения при электронной литографии. Показаны способы коррекции эффекта близости. Предназначен для студентов, обучающихся в магистратуре по направлению 210100 «Электроника и наноэлектроника».

На нашем сайте вы можете скачать книгу "Компьютерное моделирование нанотехнологий, наноматериалов и наноструктур. Математическое моделирование фотолитографических процессов и процессов электронной литографии при создании субмикронных структ" Сергей Юрчук в формате pdf, читать книгу онлайн или купить книгу в интернет-магазине.

Отзывы читателей

    Третье правило диверсанта. Книга 2. Июнь 1941 года
    Рекомендуем
    Третье правило диверсанта. Книга 2. Июнь 1941 года
    Махров Алексей Михайлович,Валерий Гуров

    Подборки книг

    Все

    Похожие книги

    Другие книги автора

    Информация обновлена: