О книге "Современные требования к кремниевым пластинам большого диаметра"
Приведены современные требования к геометрической точности изготовления пластин-подложек интегральных микросхем. Рассмотрены кремниевые подложки диаметром 150 и 200 мм, а также сапфировые подложки диаметром 100 мм.
Подробнее
Описаны новые технологические операции, применяемые при производстве полупроводниковых пластин. Для студентов специальности «Проектирование и производство электронной аппаратуры» и «Проектирование и технология радиоэлектронных средств», изучающих курс «Микроэлектроника». Ил. 17. Табл. 8. На нашем сайте вы можете скачать книгу "Современные требования к кремниевым пластинам большого диаметра" Наталья Макушина в формате pdf, читать книгу онлайн или купить книгу в интернет-магазине.