Жанр: Учебная, методическая литература и словари, Учебная литература
Теги: #учебное пособие для студентов, #электронная аппаратура, #конструирование оборудования, #полупроводники
Приведены современные требования к геометрической точности изготовления пластин-подложек интегральных микросхем. Рассмотрены кремниевые подложки диаметром 150 и 200 мм, а также сапфировые подложки диаметром 100 мм. Описаны новые технологические операции, применяемые при производстве полупроводниковых пластин. Для студентов специальности «Проектирование и производство электронной аппаратуры» и «Проектирование и технология радиоэлектронных средств», изучающих курс «Микроэлектроника». Ил. 17. Табл. 8.
На нашем сайте вы можете скачать книгу "Современные требования к кремниевым пластинам большого диаметра" Наталья Макушина в формате pdf, читать книгу онлайн или купить книгу в интернет-магазине.
